第一百三十一章 光刻机技术路线（第2/3页）

……

“林伯，你好，一直听胡教授提起你，这次你来加州我想着请你吃顿饭。

同时也有问题想咨询你。”

周新请林本坚在旧金山一家著名的越南餐厅吃饭，林本坚是出生在胡志明市的华裔。

林本坚对周新约他一起吃饭很纳闷，因为他和对方毫无交集。

林本坚对周新并不陌生，当时周新刚来阿美利肯的时候，林本坚来旧金山开会的时候就听胡正明提过，他从燕京大学招了个学生。

再后来听到这个名字，是从媒体上，比尔盖茨入股拳头游戏的新闻里，又一次出现了Newman Zhou，这个名字。

阿美利肯跟这个名字重名的应该很少，不过当时林本坚没有去问胡正明。

再后来Quora的横空出世，让林本坚确定了Newman就是周新，同时他也羡慕自己的好友能招到这么厉害的学生。

才来阿美利肯一年时间，从成就上来说妥妥的华人之光，周新在阿美利肯都快成华人的代名词了。

因为现在是九月，但凡是新来阿美利肯留学的燕大学生，都会被他们同学问到，他们认不认识周新。

招到周新这样的学生是胡正明的福气，林本坚从来不认为自己能和周新产生什么交集。

只是没想到这次他来旧金山参加光学大会，胡正明会帮周新约他一起吃个饭。

无论他怎么想，林本坚也只能想到对方确实有学术上的问题要当面请教他。

林本坚客气道：“Newman，正明他做的主要是在半导体元器件领域的研究，当然也包括EDA电路设计和模拟IC。

我想你是他的学生，之前你发表的论文我也看过，实际上也是半导体元器件方向的内容，我主要做的是光学和半导体的重叠方向。

你提出的问题，我不一定能够答得上来。”

从学术地位和年纪上来说，林本坚要比周新更高，从社会地位上来说，周新无疑高太多。当你不知道该如何称呼对方的时候，称呼对方的英文名总没错。

周新：“我知道你的研究方向，你之前一直在IBM工作，做紫外光的光刻研究。离开IBM自己创业，从事的也是光刻机领域的研究。

我最近对光刻机很感兴趣，所以想和前辈聊聊。”

林本坚的中文说得不太好，因此二人是用英文交流。

“现在光刻机的主流光源采取的是KrF，但是前辈你一直认为ArF才是未来的发展方向。

实际上工业界没有谁采用ArF，无论是尼康还是佳能，他们都一直在KrF上投入研发经费。

我想知道为什么前辈你这么看好ArF。”

ArF和KrF是光刻技术中使用到的深紫外光源，目前主流厂商采用的全部都是KrF。

ASML和台积电合作，在林本坚的带领下，最早开始大规模往ArF方向投入，这也是后续ASML实现技术垄断的关键因素之一。

说到这里就多说两句，大家都知道光刻机是半导体制程中的关键设备，用于将设计图案转移到晶圆上。

但是具体光刻机是怎么作业的，很多人并不是那么清楚。简单来说先在晶圆表面涂上一层光敏性的光刻胶，这种光刻胶会在紫外光照射下发生化学反应，然后改变它的溶解性。

国内光刻机被卡脖子，光刻胶同样被卡脖子。

然后使用光掩膜，一个上面有着细微图案的透明载体，细微图案代表了集成电路中的不同元件和互连。光掩膜被放置在光刻机的光源和硅晶圆之间。

光刻机中的光源（KrF或者ArF）照射到光掩膜上。

光通过图案的开放区域，被阻挡的部分与图案相对应。

然后，光通过投影光学系统，该系统将图案缩放并聚焦到硅晶圆上涂有光刻胶的表面。

经过曝光后，光刻胶中的光敏材料发生化学变化。